Установка атомно-слоевого осаждения - ALD от SENTECH Instruments GmbH (Германия)

 

Установка атомно-слоевого осаждения PEALD (Plasma assisted Atomic Layer Deposition) производства SENTECH Instruments GmbH (Германия)

 

 

Атомно-слоевое осаждение (ALD) - процесс осаждения очень тонких пленок с высокой однородностью и 3D структуру слой за слоем. Высокоточный контроль толщины и свойств получаемых пленок обеспечивается добавлением прекурсоров в вакуумную камеру отдельными циклами в процессе осаждения. Плазменно-стимулированное атомно-слоевое осаждение (PEALD - Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition) продвинутый метод расширяющий возможность ALD применением радикалов частиц газа вместо воды в качестве окислителя в процессе осаждения.

 

Основанное на многолетнем успешном опыте разработки и производства систем PECVD и ICPECVD, включая запатентованный ICP источник в виде тройной планарной спиральной антенны (PTSA) компания SENTECH с гордостью анонсирует запуск первой PEALD системы. Новая ALD система позволяет реализовывать как режим термического так и плазменного стимулированного осаждения, а также использует эллипсометр SENTECH для контроля осаждения. SENTECH предлагает самые передовые и современные ультра быстрые in-situ эллипсометры для контроля роста осаждаемых слой за слоем пленок с использование как лазерного так и спектроскопических эллипсометров. 

 

Первая PEALD система уже внедрена в лаборатории технического универсистетма Брауншвейга для осаждения экстримально однородных и плотных тонких пленок таких как Al2O3, ZnO. Система PEALD показала превосходные параметры по однородности и индексу преломления получаемых слоев.

 

По запросу мы можем предоставить презентацию систем ALD от SENTECH Instruments GmbH.

 

 

Пришлите нам запрос на данную установку по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.