Установка вакуумного напыления Covap II производства Angstrom Engineering Inc.

Covap II - лабораторная бюджетная установка вакуумного напыления (резистивное термическое испарение - resistive thermal evaporation) производства Angstrom Engineering Inc. (Канада).

 

Angstrom Engineering Inc. (Канада) - стремительно развивающаяся и одна из самых быстро растущих технологических компаний Канады. Компания основанная в 1992 году на сегодняшний момент является глобальным мировым игроком на рынке вакуумного технологического и исследовательского оборудования. Сегодня компания предлагает оборудования для различных процессов вакуумного нанесения пленок, таких как магнетронное напыление (sputter deposition), электронно-лучевое испарение (electron beam evaporation), ионное напыление (ion-assisted deposition), резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation), а также оборудование для эмуляции космического пространства.

 

COVAP II

 

Установки серии Covap II предлагают компактное, экономичное решение подходящее для проведения множества процессов осаждения. Эта небольшого размера бюджетная установка позволит Вам легко найти место в Вашей лаборатории для ее установки.

Построенная по высоким стандартам, Covap II конфигурируется устройством с обратной связью для управления процессами соосаждения, системой хранения рецептов и уникальной складной камерой для улучшенного доступа. Если Ваш процесс требует контроля окружающей среды, Covap II сконструирована таким образом, что на нее можно установить новый или существующий перчаточный бокс.

 

Процессы: резистивное термическое испарение (resistive thermal evaporation) - до 4-х источников или один источник магнетронного напыления (sputter deposition)

 

Обзор:

- Вакуумный колпак системы позволяет легко открывать камеру для беспрепятственного доступа для снятия экранов (заслонок) и подготовки системы для следующего процесса..

- Конструкция готова к интегрированию в перчаточный бокс.

- Компактный дизайн 600 мм х 1000 мм (габариты размещения на полу)

- Возможность выбора из 2-ух или 4-х конфигураций источников

- Автоматическое управление процессами осаждения многослойных пленок на основе рецептов.

- Процесс последовательного или параллельного (co-deposition) напыления

- Диаметр обрабатываемых подложек до 100мм. с возможностью обеспечения различных скоростей вращения.

- Обучение работе на системе на заводе

- 2 года гарантии.

 

Контроль вакуума:

- Автоматический форвакуумный насос

- Сухие насосы (опция)

- Высокий вакуум обеспечивается турбомолекулярным насосом

- Пневматически воздушный фильтр

 

Управление процессом осаждения:

- теневая маска и выравнивание подложки

- легко и быстро устанавливаемые датчики для поддержки и контроля процесса

- датчики скорости осаждения для контроля и управления процессом

- конфигурация для реализации процесса соосаждения- co-deposition (параллельное осаждение нескольких материалов для получения сплава)

- QCM - изолированный датчик обеспечивает отсутствие интерференции при напылении от прилегающих источников

- Широкополосный источник 2,5 кВА обеспечивает возможность контроля и управления как для процессов требующих низких температур при напылении (органически пленки) так и для процессов напыления металлов, проходящих при высоких температурах.

- изолирующие экраны из нержавеющей стали защищающие от загрязнения от перекрестного напыления.

 

Система Covap II (изображения):

 

 

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас продукцию по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.