Оборудование для процессов SprayCVD и химического осаждения металлоорганических соединений из паровой фазы (MOCVD) производства ANNEALSYS 

ANNEALSYS (Франция) - компания разработчик и производитель высококачественных систем для таких процессов как быстрые термические процессы (Rapid Thermal Processing - RTP), быстрый термический отжиг (Rapid Thermal Annealing - RTA), быстрое термическое окисление (Rapid Thermal Oxidation - RTO), химическое осаждение из газовой фазы (Chemical Vapor Deposition - CVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition - MOCVD, SprayCVD), LPCVD. Компания производит установки как для исследований (R&D) так и для мелкосерийного производства. Область применения: Кремний (Silicon), полупроводниковые соединения, микромеханика (MEMS), солнечные элементы, стекло, оптика и т.д. 

 

Компания ANNEALSYS производит печи для процессов SprayCVD и MOCVD для обработки подложек и пластин диаметром от 2 дюймов до 8 дюймов (200 мм.) для удовлетворения требований исследовательских лабораторий (R&D) и мелкосерийного производства. Использование ультрасовременной системы прямого впрыска жидкости (Direct Liquid Injection - DLI) позволяет разрабатывать и получать новые материалы с использованием новых химических исходных веществ (прекурсоров).

 

Печи SprayCVD-050 и MC-050 могут выполнять процессы осаждение и отжиг в одной системе.

 

Установки SprayCVD и MOCVD:

 

Установка SprayCVS-050

Лабораторная печь для процессов SprayCVD на подложках диаметром до 2-ух дюймов. Осаждение и отжиг в одной камере. 

 

Применение:

SprayCVD

быстрый термический отжиг (RTA),

быстрое термическое окисление (RTO)

In-situ отжиг и др.

Пластины до 2-ух дюймов

Максимальная температура: 1200°C

Загрузка: ручная

Подробнее...

 

 

Установка MOCVD MC-050

Бюджетная установка для процессов MOCVD для исследований и НИОКР на подложках диаметром до 2-ух дюймов. осаждение и отжиг можно производить в одной камере.

 

Применение:

SprayCVD, CVD, MOCVD

быстрый термический отжиг (RTA),

быстрое термическое окисление (RTO)

In-situ отжиг и др.

Пластины до 2-ух дюймов

Максимальная температура: 1200°C

Загрузка: ручная

Подробнее...

 

 

Установка MOCVD MC-100, 150, 200

Универсальная установка для процессов MOCVD для исследований и R&D. Установка доступна для обработки пластин до 8 дюймов (200 мм.)

 

Применение:

CVD, MOCVD, Металлы, сплавы... и др.

Пластины до 8-ми дюймов (200 мм.)

Максимальная температура: 850°C

Загрузка: ручная (опция: загрузка из кассеты в кассету)

Подробнее...

 

 

Установка LPCVD LC100 / LC102

Печь для процессов LPCVD для R&D и мелкосерийного производства. Установка доступна для обработки пластин до 4 дюймов (100 мм.)

 

Применение:

LPCVD

Poly-Si, SiO2 ,Si3N4

Stress free Si3N4

Отжиг

Окисление

Диффузия и т.д.

 

Пластины до 4-x дюймов (100 мм.)

Температура: 500-1100°C

Загрузка: ручная, до 50 пластин за процесс

Подробнее...

 

Презентация компании ANNEALSYS...

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас продукцию по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.