Установка LPCVD LC100 производства ANNEALSYS 

ANNEALSYS (Франция) - компания разработчик и производитель высококачественных систем для таких процессов как быстрые термические процессы (Rapid Thermal Processing - RTP), быстрый термический отжиг (Rapid Thermal Annealing - RTA), быстрое термическое окисление (Rapid Thermal Oxidation - RTO), химическое осаждение из газовой фазы (Chemical Vapor Deposition - CVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition - MOCVD, SprayCVD), LPCVD. Компания производит установки как для исследований (R&D) так и для мелкосерийного производства. Область применения: Кремний (Silicon), полупроводниковые соединения, микромеханика (MEMS), солнечные элементы, стекло, оптика и т.д. 

 

LPCVD LC100 - установка LPCVD для R&D и мелкосерийного производства:

 

Бюджетная установка для процессов MOCVD для исследований и НИОКР на подложках диаметром до 2-ух дюймов. осаждение и отжиг можно производить в одной камере.

 

Применение:

LPCVD

Poly-Si, SiO2 ,Si3N4

Stress free Si3N4

Отжиг

Окисление

Диффузия и т.д.

 

Спецификация и описание:

- Установка LC-100 - установка для проведения процессов LPCVD на пластинах диаметром до 4-х дюймов для НИОКР и мелкосерийного производства.

- Установка применяется для процессов отжига и LPCVD. Реактор установки поддерживает загрузку до 50 пластин диаметром 100 мм в реактор. Труба (реактор) установки сделан из кварца и имеет фланец из нержавеющей стали. Кварцевые лодочки держатся на двух кварцевых стержнях прикрепленных к двери камеры. Нагреватели обеспечивают быстрый термическую реакцию и низкий уровень загрязнения.

- Температурный контроллер высокого качества контролирует температуру в каждой нагревательной зоне.

 - Печь может быть сконфигурирована с двумя реакторами (LC102)

 

Исполнение и характеристики:

- Температурный диапазон: от 500°C до 1000°C (1150°C - опционально)

- Пластины до 4-x дюймов (100 мм.)

- Загрузка до 50 пластин (за процесс)

- Кварцевая труба с водоохлаждаемым фланцем из нержавеющей стали

- Резистивный нагрев

- Контроль температуры с термопарами

- Цифровой PID контроллер - 3 зоны

- Вакуум, среда:

  Продувочная газовая линия с игольчатым клапаном

  до 8 процессных газовых линий с цифровым MFC

  Вакуумные затворы и вакууметры

  Опционально роторный или сухой вак. насос

  Турбомолекулярный насос (опция)

- Управление с помощью ПК

- Подключение:

   3 х 400В+N+Gr или 3 х 220В+Gr, 50Гц

   Мощность 15кВт

   Вода: 2-6 Бар, 8 л/мин

   Сжатый воздух: 6 Бар

   Фитинги для газовых линий - 1/4 дюйма

Размеры: 700 х 1700 х 1500 (ШхГхВ), 600 кг.

 

Брошюра - установка LPCVD LC100... 

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас продукцию по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.