Универсальная установка MOCVD процессов MC-100 для R&D и лабораторий производства ANNEALSYS 

ANNEALSYS (Франция) - компания разработчик и производитель высококачественных систем для таких процессов как быстрые термические процессы (Rapid Thermal Processing - RTP), быстрый термический отжиг (Rapid Thermal Annealing - RTA), быстрое термическое окисление (Rapid Thermal Oxidation - RTO), химическое осаждение из газовой фазы (Chemical Vapor Deposition - CVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition - MOCVD, SprayCVD), LPCVD. Компания производит установки как для исследований (R&D) так и для мелкосерийного производства. Область применения: Кремний (Silicon), полупроводниковые соединения, микромеханика (MEMS), солнечные элементы, стекло, оптика и т.д. 

 

MC-100 и MC-200 - установки DLI-CVD, MOCVD процессов для R&D и лабораторий:

 

Универсальные установки для процессов DLI-CVD, MOCVD для исследований и R&D. Установки MC-100 и MC-200 доступны для обработки пластин до 4 и 8 дюймов соответственно.

 

Применение:

- DLI-CVD, DLI-ALD, MOCVD

- Металлы и сплавы, оксиды, нитриды,

- Углеродные нанатрубки и нанопровода

 

- Полупроводники: SiO2, HfO2, Ta2O5, Cu, TiN, TaN, ...

- Диэлектрики с высоким k: SrTiO3, BaTiO3, Ba(1-x)SrxTiO3 (BST)

- Ферроэлектрики: SBT, SBTN, PLZT, PZT,…

- Сверхпроводники: YBCO, Bi-2223, Bi-2212, Tl-1223, …

- Пьезоэлектрики: (Pb, Sr)(Zr,Ti)O3, Модифицированный титанат свинца с колоссальным магнитным сопротивлением

- Металлы: Pt, Cu,...

- Термические покрытия

- Буфферные слои

- Механические покрытия

- Оптика

 

Спецификация и описание:

- Установки MC-100 и MC-200 - установки с холодными стенками для проведения DLI-CVD, MOCVD процессов специально разработаны для удовлетворения требований заказчиков занимающихся разработками и исследованиями

- MC-100 и MC-200 позволяют проводить процесс гетороэпитаксии оксидов на пластине монокристаллического кремния (такие как YBCO/LAO, STO/MgO, MxOy/LAO,…) с помощью MOCVD с использованием большого числа твердых, жидких металлоорганических прекурсоров с использованием технологии прямого впрыска жидкости (Direct Liquid Injection.)

- Системы MC-100 и MC-200 могут быть снабжены разными аппаратами  (системами) впрыска и вакуумным оборудованием в зависимости от применения.

- CVD процессс с пульсирующим давлением

 

Исполнение и характеристики:

- Температурный диапазон: от комнатной (RT) до 850°C (± 1°C)

- Высокая скорость нагрева до 200°C/сек для пластины в 2 дюйма

- Возможность смешивания газов с контроллерами массового расхода

- До 4 испарителей

- Вакуум: от атм. (н.у.) до 10-3 Торр  (10-6 Торр с турбонасосом - опция)

- Измерение температуры термопарой и быстрым температурным контроллером PID гарантирует высокий и стабильный температурный контроль по всему диапазону температур.

- Пирометрический контроль

- Система имеет управление с ПК с программным обеспечением на базе Windows.

- Загрузка: ручная (кассета - опция)

 

Брошюра - установка DLI-CVD, MOCVD MC-100... 

 

Брошюра - установка DLI-CVD, MOCVD MC-200... 

 

Презентация - установка MOCVD MC-100...

 

Презентация - установка MOCVD MC-200...

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас продукцию по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.