Оборудование для быстрых термических процессов (RTP) производства ANNEALSYS 

ANNEALSYS (Франция) - компания разработчик и производитель высококачественных систем для таких процессов как быстрые термические процессы (Rapid Thermal Processing - RTP), быстрый термический отжиг (Rapid Thermal Annealing - RTA), быстрое термическое окисление (Rapid Thermal Oxidation - RTO), химическое осаждение из газовой фазы (Chemical Vapor Deposition - CVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition - MOCVD, SprayCVD), LPCVD. Компания производит установки как для исследований (R&D) так и для мелкосерийного производства. Область применения: Кремний (Silicon), полупроводниковые соединения, микромеханика (MEMS), солнечные элементы, стекло, оптика и т.д. 

 

Компания ANNEALSYS производит системы для быстрых термических процессов (RTP) для обработки пластин диаметром от 2 до 8 дюймов с температурным диапазоном от комнатной до 1500 °C и скоростью нагрева до 250°C/сек. и высокотемпературных быстрых термических процессов (Hight Temp RTP) для обработки пластин диаметром до 4 дюймов с температурным диапазоном от 450°C до 2000 °C.

 

Системы быстрых термических процессов компании ANNEALSYS используют для нагрева инфракрасные лампы и могут быть использованы для большого числа применений таких как Кремний (Si), полупроводниковые соединения, фотовольтаика, MEMS, постимплантационный отжиг SiC, CVD графена  и и других. Типичные процессы для систем - это послеимплантационный отжиг, отжиг контактов, кристализация, уплотнение. Быстрое термическое окисление и азотирование также является применимым.

 

Установки быстрых термических процессов (RTP):

 

Установка AS-Micro

Система для использования пластин диаметром до 3 дюймов для использования в лабораториях. Версия с двумя камерами для перекрестного загрязнения (cross contamination).

 

Применение:

быстрый термический отжиг (RTA),

быстрое термическое окисление (RTO)

послеимплантационный отжиг и др.

Температурный диапазон: от RT до 1250°C

Загрузка: ручная

Подробнее...

 

 

Установка AS-One

Система для быстрых термических процессов с холодными стенками в исполнении для пластин диаметром до 4 дюймов (100 мм) и до 6 дюймов (150 мм)

 

Применение:

быстрый термический отжиг (RTA),

быстрое термическое окисление (RTO)

послеимплантационный отжиг и др.

Температурный диапазон: от RT до 1500°C (в зависимости от версии печи)

Загрузка: ручная

Подробнее...

 

 

Установка AS-Master

Универсальная система для быстрых термических процессов (RTP) для обработки пластин диаметром до 8 дюймов (200 мм.) с возможностью проведения процессов RTCVD (опция).   

 

Применение:

быстрый термический отжиг (RTA),

быстрое термическое окисление (RTO)

RTCVD

послеимплантационный отжиг и др.

Температурный диапазон: от RT до 1500°C (в зависимости от версии печи)

Загрузка: ручная (опция: загрузка из кассеты в кассету)

Подробнее...

 

 

Установка AS-Premium

Компактная система для быстрых термических процессов (RTP) для обработки пластин размером до 8х8 дюймов (200 х 200 мм).   

 

Применение:

быстрый термический отжиг (RTA),

быстрое термическое окисление (RTO)

Диффузия

Селенизация, сульфурация

Отжиг полупроводников

Нитритизация, силицидирование

Кристализация и уплотнение

Температурный диапазон: от RT до 1300°C

Верхнее расположение ламп или двухсторонний отжиг с верхним и нижним расположением ламп

Загрузка: ручная

Подробнее...

 

 

High Temperature RTP-CVD

 

Установка Zenith 100

Компактная система для высокотемпературных термических процессов (High Temperature RTP и CVD) для обработки пластин диаметром до 4 дюймов (100 мм)  

 

Применение:

Постимплантационный отжиг SiC

Получение графена высокотемпературной сублимацией SiC

Получение рафена CVD методом

Температурный диапазон: от RT до 2000°C

Загрузка: ручная

Подробнее...

 

 

 

Презентация компании ANNEALSYS...

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас продукцию по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.