Установка быстрых термических процессов (RTP) с возможность RTCVD с холодными стенками модели AS-Master производства ANNEALSYS 

ANNEALSYS (Франция) - компания разработчик и производитель высококачественных систем для таких процессов как быстрые термические процессы (Rapid Thermal Processing - RTP), быстрый термический отжиг (Rapid Thermal Annealing - RTA), быстрое термическое окисление (Rapid Thermal Oxidation - RTO), химическое осаждение из газовой фазы (Chemical Vapor Deposition - CVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition - MOCVD, SprayCVD), LPCVD. Компания производит установки как для исследований (R&D) так и для мелкосерийного производства. Область применения: Кремний (Silicon), полупроводниковые соединения, микромеханика (MEMS), солнечные элементы, стекло, оптика и т.д. 

 

AS-Master - установка быстрых термических процессов (RTP) и возможность RTCVD с холодными стенками:

 

Универсальная система для быстрых термических процессов (RTP) для обработки пластин диаметром до 8 дюймов (200 мм.) с возможностью проведения процессов RTCVD (опция). 

 

Применение:

- Быстрый термический отжиг (RTA - Rapid Thermal Annealing),

- Быстрое термическое окисление (RTO - Rapid Thermal Oxidation)

- Отжиг SiC контактов, карбонизация

- Отжиг соединений полупроводников

- Контроль качества имплантации

- Послеимплантационный отжиг

- RTCVD (поликремний - Poly Si, SiO2, SiNx...) и др.

 

Спецификация и описание:

- Система быстрых термических процессов AS-Master имеет высокую функциональность для широкого диапазона процессов от отжига до быстрого термического осаждения из газовой фазы (RTCVD)

- Версия установки для высокой температуры может проводить процесс отжига при 1500 °C и позволяет разрабатывать новые процессы.  Опционально: кубическая камера реактора для больших и квадратных и прямоугольных образцов.

- Технология холодных стенок из нержавеющей стали дающая высокую воспроизводимость процесса с ультра чистой средой и отсутствием загрязнений

- Загрузочный шлюз и кластерная конфигурация системы доступны по запросу для увеличения чистоты процесса.

- Расширенный температурный диапазон, вакуум (от атмосферы до 10-7 Торр) и возможность смешивания газов делает установку AS-Master подходящей для большого числа RTP процессов и RTCVD процессов.

- Пирометр и термопара для контроля температуры вместе с быстрым цифровым контроллером PID температуры обеспечивает высокую точность и стабильность температуры

- Ручная загрузка или загрузка из кассеты (опция) делает систему подходящей для переноса процесса разработки и НИОКР в производство.

 

Исполнение и характеристики:

- Температурный диапазон: от комнатной (RT) до 1500°C (в зависимости от версии)

- Скорость нагрева до 200°C/сек.

- Возможность смешивать процессные газы

- Контроллеры массового расхода газа

- Вакуум: от атм. (н.у.) до 10-7 Торр с турбомолекулярным насосом

- Измерение температуры термопарой и быстрым температурным контроллером PID гарантирует высокий и стабильный температурный контроль по всему диапазону температур.

- Система имеет управление с ПК с программным обеспечением на базе Windows.

 

Брошюра - установка AS-Master... 

 

Презентация - установка AS-Master...

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас продукцию по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.