Лабораторная установка быстрых термических процессов (RTP) модели AS-Micro производства ANNEALSYS 

ANNEALSYS (Франция) - компания разработчик и производитель высококачественных систем для таких процессов как быстрые термические процессы (Rapid Thermal Processing - RTP), быстрый термический отжиг (Rapid Thermal Annealing - RTA), быстрое термическое окисление (Rapid Thermal Oxidation - RTO), химическое осаждение из газовой фазы (Chemical Vapor Deposition - CVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition - MOCVD, SprayCVD), LPCVD. Компания производит установки как для исследований (R&D) так и для мелкосерийного производства. Область применения: Кремний (Silicon), полупроводниковые соединения, микромеханика (MEMS), солнечные элементы, стекло, оптика и т.д. 

 

AS-Micro - установка быстрых термических процессов (RTP):

 

Система для использования пластин диаметром до 3 дюймов для использования в лабораториях. Версия с двумя камерами для перекрестного загрязнения (cross contamination).

 

Применение:

- Быстрый термический отжиг (RTA),

- Быстрое термическое окисление (RTO)

- Послеимплантационный отжиг

- Отжиг соединений полупроводников

- Кристализация и Загустевание

- Сульфиризация и Селенизация и др.

 

Спецификация и описание:

- Термопроцессор для быстрой термической обработки 3-дюймовых пластин

- Компактная конфигурация для настольного расположения

- Узкоспециализированные и исследовательские задачи применения

- Размер образцов: от нескольких квадратных миллиметров до 3 дюймов в диаметре

- Опционально трехдюймовый держатель для образцов диаметром 2 дюйма

- Кварцевая труба камеры реактора с фланцами из нержавеющей стали

- Цилиндрические инфракрасные галогеновые лампы печи

- Очень быстрая скорость нагрева

- Дверь с горизонтальным движением с кварцевым лотком для легкой загрузки/выгрузки пластин и установки термопар.

 

Исполнение и характеристики:

- Температурный диапазон: от комнатной (RT) до 1250°C

- Скорость нагрева до 250°C/сек. на двухдюймовой (2") кремниевой подложке и 200°C/сек на трехдюймовой (3") подложке.

- Возможность смешивать процессные газы

- Контроллеры массового расхода газа

- Вакуум: от атм. (н.у.) до 10-2 Торр (10-6 Торр по запросу с турбомолекулярным насосом - опция)

- Измерение температуры термопарой и быстрым температурным контроллером PID гарантирует высокий и стабильный температурный контроль по всему диапазону температур.

- Опционально: пиромерт

- Система имеет управление с ПК с программным обеспечением на базе Windows.

 

Брошюра - установка AS-Micro... 

 

Презентация - установка AS-Micro...

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас продукцию по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.