Компактная установка высокотемпературных быстрых термических процессов (High Temperature RTP)  с холодными стенками модели Zenith 100 производства ANNEALSYS 

ANNEALSYS (Франция) - компания разработчик и производитель высококачественных систем для таких процессов как быстрые термические процессы (Rapid Thermal Processing - RTP), быстрый термический отжиг (Rapid Thermal Annealing - RTA), быстрое термическое окисление (Rapid Thermal Oxidation - RTO), химическое осаждение из газовой фазы (Chemical Vapor Deposition - CVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition - MOCVD, SprayCVD), LPCVD. Компания производит установки как для исследований (R&D) так и для мелкосерийного производства. Область применения: Кремний (Silicon), полупроводниковые соединения, микромеханика (MEMS), солнечные элементы, стекло, оптика и т.д. 

 

Zenith 100 - компактная установка высокотемпературных быстрых термических процессов (High Temperature RTP) с холодными стенками:

 

Компактная система для высокотемпературных быстрых термических процессов (High Temperature RTP) для обработки пластин диаметром до 4 дюймов (100 мм.) при температуре до 2000°C

 

Применение:

-Постимплантационный отжиг SiC

-Получение графена высокотемпературной сублимацией SiC

-Получение рафена CVD методом

 

Спецификация и описание:

- Система имеет камеру с водоохлаждаемыми стенками из нержавеющей стали.

- Технология холодных стенок из нержавеющей стали дающая высокую воспроизводимость процесса с ультра чистой средой и отсутствием загрязнений и быстрым охлаждением.

- Высокотемпературные вольфрамовые нагреватели обеспечивают высокую скорость нагрева и увеличенную однородность по температуре.

- Пирометр и термопара для контроля температуры вместе с быстрым цифровым контроллером PID температуры обеспечивает высокую точность и стабильность температуры

- Система имеет компактное напольное исполнение с легким доступом для сервисного обслуживания

- Высокая надежность и низкая стоимость владения.

- Расширенный температурный диапазон, высокий вакуум и возможность смешивания газов делает установку Zenith 100 подходящей для большого числа High Temp RTP процессов.

- Ручная загрузка

- PC контроль и создание большого количества рецептов

 

Исполнение и характеристики:

- Температурный диапазон: от комнатной (RT) до 2000°C

- Возможность смешивать процессные газы (до 8 шт)

- Контроллеры массового расхода газа

- Высокий вакуум с турбомолекулярным насосом

- Измерение температуры термопарой и быстрым температурным контроллером PID гарантирует высокий и стабильный температурный контроль по всему диапазону температур.

- Система имеет управление с ПК с программным обеспечением на базе Windows.

 

Брошюра - установка Zenith 100... 

 

Презентация - установка Zenith 100...

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас продукцию по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.