Лабораторная установка SprayCVD-050 производства ANNEALSYS 

ANNEALSYS (Франция) - компания разработчик и производитель высококачественных систем для таких процессов как быстрые термические процессы (Rapid Thermal Processing - RTP), быстрый термический отжиг (Rapid Thermal Annealing - RTA), быстрое термическое окисление (Rapid Thermal Oxidation - RTO), химическое осаждение из газовой фазы (Chemical Vapor Deposition - CVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition - MOCVD, SprayCVD), LPCVD. Компания производит установки как для исследований (R&D) так и для мелкосерийного производства. Область применения: Кремний (Silicon), полупроводниковые соединения, микромеханика (MEMS), солнечные элементы, стекло, оптика и т.д. 

 

SprayCVD-050 - установка SprayCVD и RTA для лабораторий:

 

Лабораторная печь для процессов SprayCVD на подложках диаметром до 2-ух дюймов или 2 х 2 дюйма. Осаждение SprayCVD и отжиг (RTA) в одной камере. 

 

Применение:

- SprayCVD и быстрый термический отжиг (RTA - Rapid Thermal Annealing) в одной печи

- Электрооптические покрытия

- Создание барьерных слоев

- Каталитически активные покрытия

- Электрохромные покрытия

- Прозрачные проводящие оксиды

- Solid oxide fuel cell (SOFC)

- Отжиг соединений полупроводников

 

- Солнечные элементы: SnO2, ZnO, TiO2, In2O3,…

- Электро-оптические покрытия: NiO, Co3O4,…

- запоминающее устройство на сегнетоэлектриках: SrTiO3,…

- Изолирующие барьерные слои: MgO,…

- Каталитические активные покрытия: Co3O4 , NiCo2O4,…

- Полупроводники: Nb2O5,…

- Сверхпроводники: YBCO,…

- Электрохромовые покрытия: WO3,….

- Твердооксидный топливный элементы: (SOFC): ZrO2, YSZ, GCO,…

 

Спецификация и описание:

- Термопроцессор для быстрого термического отжига и SprayCVD процессов на 2-дюймовых пластинах

- Узкоспециализированные и исследовательские задачи применения

- Размер образцов: от нескольких квадратных миллиметров до 2-ух дюймов в диаметре

- Кварцевая труба камеры реактора с фланцами из нержавеющей стали

- Цилиндрические инфракрасные галогеновые лампы печи

- Очень высокая скорость нагрева

- Дверь с горизонтальным движением с кварцевым лотком для легкой загрузки/выгрузки пластин и установки термопар.

 

Исполнение и характеристики:

- Температурный диапазон: от комнатной (RT) до 1200°C (± 1°C)

- Высокая скорость нагрева до 250°C/сек. (200°C/сек для пластины в 2 дюйма)

- Возможность смешивания прекурсоров с аэрозольным аппаратом Atokit (аэрозольный аппарат)

- Вакуум: от атм. (н.у.) до 10-3 Торр  (10-6 Торр с турбомолекулярным насосом)

- Измерение температуры термопарой и быстрым температурным контроллером PID гарантирует высокий и стабильный температурный контроль по всему диапазону температур.

- Пирометрический контроль (опционально)

- Система имеет управление с ПК с программным обеспечением на базе Windows.

- Загрузка: ручная

 

Брошюра - установка SprayCVD... 

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас продукцию по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.