Система безмасковой лазерной литографии DWL 66+ Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH

НОВАЯ DWL 66+ - cистема безмасковой лазерной литография Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) для производства фотошаблонов и прямого формирования изображения

 

 

Лазерный генератор изображений Heidelberg DWL 66+ предназначен для задач НИОКР, мелкой серии, опытное производство. Формирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.

 

Для обеспечения высокоточного перемещения лазерного луча генератор оборудован специальной оптической системой и системой позиционирования подложки. Во время экспонирования положение координатного столика контролируется с помощью интерферометрической системы высокого разрешения.

Для обеспечения наилучшей разрешающей способности генератор оборудован системой автофокусировки.

 

Для перемещения подложки в горизонтальной плоскости применяется специальная система позиционирования.

Камера микроклимата входит в комплект поставки.

 

В базовой комплектации система оснащена диодным лазером, работающим на длине волны 405 нм с мощностью до 300 мВт. В зависимости от технических требований заказчика установка может быть оснащена различными лазерными системами: UV диодный лазер (375 нм, 70 мВт) или Твердотельный UV лазер (355 нм, 250 мВт.)

 

Технические характеристики DWL 66+:

Минимальный топологический размер до 0,6 мкм;

Дискретность адресной сетки до 25,4 нм;

Скорость экспонирования  — до 1000 мм2/мин;

Неровность края элементов до 60 нм;

МАксимальный размер подложки: 200 х 200 мм2

Минимальный размер подложки: 10 х 10 мм2

Толщина подложки до 6 мм;

Погрешность позиционирования подложки: 10 нм;

DWL 66FS:

Размеры установки: 1740 х 1220 х 2200 мм, вес: 1000 кг;

Размеры блока управления: 560 х 600 х 1250 мм, вес: 60 кг;

DWL 66+

Размеры установки: 1300 х 1100 х 1950 мм, вес: 1000 кг;

Размеры блока управления: 630 х 760 х 1950 мм, вес: 100 кг;

 

Энергопотребление: 230 VAC ± 5 %, 50/60 Hz, 16 A.

Класс чистоты комнаты: 1000 или лучше.

 

Состав установки в базовой комплектации:

 

Камера микроклимата;

Гранитное основание и основной блок;

Антивибрационная система;

Оптическая система;

Измерительная система;

Калибровочная система автофокусировки;

Система позиционирования подложки;

Электронный блок управления;

Персональный компьютер пользователя;

 

Комплектация по заказу :

Возможность работы с различным разрешением путём простой замены пишущей головки;

Совмещение с обратной стороны с помощью дополнительных камер;

Блок охлаждения для камеры микроклимата, при использовании мощных лазерных источников;

Возможность использования различных лазерных источников для работы на разных длинах волн.

Опция векторного экспонирования

Опция оптической автофокуировки

Опция - продвинутая система экспонирования в серой шкале (grey scale exposure mode) - для создания 3D структур

 

Лазерные источники:

 

Диодный лазер — 405 нм, 100 мВт, 200 мВт, 300 мВт, 8000 часов, воздушное охлаждение, для тонких и стандартых резистов;

UV диодный лазер — 375 нм, 70 мВт, 7000 часов, водяное охлаждение, для стандартных резистов, УФ резистов

Твердотельный UV лазер — 355 нм, 250 мВт, 20000 часов, водяное охлаждение, для стандартных резистов, УФ резистов

 

Режимы формирования рисунка DWL 66+

Режим работы I II III IV V VI
Размер адресной сетки, нм 10 20 25 50 100 200
Минимальный размер элемента, мкм 0,6 0,8 1,0 2,0 4,0 7,0
Скорость рисования, мм2/мин. 6,0 25 39 145 500 1000
Неровность края (3σ), нм 50 70 80 110 180 250
Равномерность (3σ), нм 60 80 100 180 250 500
Точность совмещения (3σ), нм 100 120 150 250 400 1000

 

Примеры:

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас установку по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.