Установки вакуумного напыления, атомно-слоевого осаждения ALD, FLA (flash lamp annealing), Inline системы

Компания FHR Anlagenbau GmbH (centrotherm photovoltaics AG) (Германия) производит установки вакуумного напыления, атомно-слоевого осаждения (ALD), FLA (Flash Lamp Annealing), Inline системы

 

Компания FHR Anlagenbau GmbH (Германия) с недавних пор входящая в группу копаний Сentrotherm photovoltaics AG входит в дрезденскую организацию Silicon Saxony производителей оборудования для производства полупроводников. Компания является одной из передовых в разработке систем для вакуумного напыления тонких пленок для производства полупроводников и оптики, атомно-слоевого осаждения (ALD) и систем для производства солнечных элементов (Photovoltaics) и установок быстрого термического отжига (FLA) и установок нанесения покрытий на ленту (web coatings) по индивидуальным требованиям заказчика.

 

 

Кластерные системы производства FHR:

 

 

Свободно конфигурируемые кластерные системы для исследования и производства

 

- На основе гибкой модульной концепции
- Многочисленные технологические процессы могут быть интегрированы
- Промышленный стандарт для обработки полупроводниковых пластин

 

С непревзойденной гибкостью системы могут конфигурироваться как для процессов при разработке новых изделий (R&D применений) так и для задач промышленного производства изделий микроэлектроники. Компания может предложить модульные решения для обработки пластин разных диаметров и для выбранных процессов. Также компания может предложить конфигурацию систем необходимую заказчику.

 

Процессы, которые могут быть интегрированы:

 

- магнетронное распыление

- термическое испарение

- химическое осаждение (CVD/PECVD)

- атомно-слоевое осаждение (ALD)

- плазменное травление (PE/RIE)

- отжиг с помощью импульсной лампы (FLA)/ быстрый термический отжиг (RTP)

 

Типичные применения:

 

- полупроводники

- оптика

- датчики и сенсоры

- фотовольтаика (производство и разработка солнечных элементов)

 

 

Inline (встраиваемые) системы производства FHR:

 

Высокопроизводительные экспериментальные и производственные линии с оптимизированной производительностью

 

- линейные и нелинейные возможности транспорта

- одновременное покрытие передней и задней стороны

- множество различных технологических процессов интегрированы в линии

 

Inline системы - производственные линии для нанесения покрытий на поверхностью с большой площадью. Компания предлагает решения для нанесения покрытий к горизонтальным и вертикальным позиционированием. Системы могут быть снабжены различными системами для предварительной обработки поверхности (нагрев, травление).

 

Процессы, которые могут быть интегрированы:

 

- магнетронное распыление

- термическое испарение

- химическое осаждение (CVD/PECVD)

- атомно-слоевое осаждение (ALD)

- плазменное травление (PE/RIE)

- отжиг с помощью импульсной лампы (FLA)/ быстрый термический отжиг (RTP)

 

Типичные применения Inline систем:

 

- оптика

- датчики и сенсоры

- фотовольтаика (производство и разработка солнечных элементов)

- производство стекла

 

 

Отжиг с помощью импульсной лампы (FLA - Flash Lamp Annealing) производства FHR:

 

 

Быстрый отжиг и оплавление в мили секундном диапазоне

 

- температура поверхности до 2000 °C

- лампы обеспечивают ультра короткие импульсы

- может быть использована в кластерных системах

 

Для некоторых применений используется процесс нагрева поверхности импульсными лампами, более известный как FLA или Flash Lamp Annealing. FLA процесс имеет множество преимуществ перед традиционным быстрым термическим отжигом (RTP или Rapid Thermal Processing): ультра короткое время нагрева, макс. температура до 2000 °C, время импульса менее миллисекунды. В процессе отжига импульсными лампами сравнительно большая поверхность подложки может быть нагрета однородно - один из факторов выгодно отличающих FLA от дискретного нагрева подложек лазерным излучением.  

 

FLA системы для подложек  диаметром от 100 до 200 мм:

 

FLA 200-A

FLA 100 DL

FLA 100

FLA модуль для кластерной системы

 

Типичные применения FLA:

 

- полупроводники

- MEMS и NEMS

- дисплеи

- датчики и сенсоры

- фотовольтаика (производство и разработка солнечных элементов)

 

Системы атомно-слоевого осаждения (ALD):

 

 

Прецизионный контроль роста - от атомного слоя к атомному слою

 

- дизайн систем по запросу заказчика

- независимый контроль газа

- интегрированная система in-situ мониторинга процесса

 

С реакторами ALD ультра тонкие функциональные слои могут быть получены с превосходной однородностью по толщине. Температура процесса может ранжироваться от 150 до 400  °C. Системы ALD специально разрабатываются и производятся согласно требованиям заказчика. Системы полностью свободно конфигурируются как по дизайну камеры, контроля газа, нагреву и охлаждения. Компания предлагает платформы для обработки пластин диаметром 100 мм, 150 мм, 300 мм.

 

Системы атомно-слоевого осаждения (ALD):

 

ALD 100

ALD 150

ALD 300

ALD модуль кластерной системы

 

Типичные применения ALD:

 

- полупроводники

- OLED дисплеи

- MEMS и NEMS

- оптика

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас продукцию по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.