Установки электронно-лучевой литографии JEOL

Установка элеткронно-лучевой литографии JEOL JBX-3050MV (Япония)

 

JEOL Ltd. - мировой лидер в производстве и разработке сканирующих (растровых) электронных микроскопов (РЭМ), просвечивающих электронных микроскопов (ПЭМ), анализаторов поверхности (ОЖЕ микроанализаторы, фотоэлектронные спектрометры, электронно-зондовые микроанализаторы EPMA), системы с фокусированным ионным пучком, масс-спектрометров, спектрометров ядерного магнитного резонанса (ЯМР) и систем электронно-лучевой литографии для производства полупроводниковых приборов.

 

Система для производства фотошаблонов JBX-3050MV производства JEOL (Япония)

В связи с  ростом производства микросхем с высокими степенями интеграции, растет потребность мировой полупроводниковой промышленности в высокоточных высокопроизводительных системах производства фотошаблонов. Компания JEOL, являеющаяся лидером по производству промышленных систем электронно-лучевой литографии, следуя новейшим мировым тенденциям, выпустила новую модель – JBX-3050MV.

JBX-3050MV обладает высокими однородностью и плотностью пучка (до 40А/см2),  возможностью изменять форму пучка, проводить векторное сканирование. Данная система вобрала все лучшие качества предыдущих моделей, включая лидера продаж десятилетия – JBX-3040MV.  Она отличается высокой надежностью и производительностью, и, благодаря этому, за столь короткий период прекрасно себя зарекомендовала на ведущих предприятиях мира.

Основные технические характеристики:

Форма пучка

Изменяемая

Сканирование

Векторное

Ускоряющее напряжение

50 кВ

Плотность тока

40А/см2

Однородность

не более 3,5 нм (3σ

Точность позиционирования

не более 7 нм (3σ)

 

Другие системы электронно-лучевой литографии JEOL:

 

 

Электронная пушка

Ускоряющее наряжение

Минимальный размер пучка

Размер пластин

Форма пучка

Развертка

JBX-3050MV

LaB6 single crystal

50 кВ.

 

6 дюймов

(маски)

изменяемая

Векторное сканирование

JBX-5500FS

ZrO/W
(типа Шотки)

50 кВ / 25 кВ

2 нм.

пластины 100 мм

пятно

Векторное сканирование

JBX-6300FS

ZrO/W (Schottky)

100 кВ / 50 кВ / 25 кВ

2 нм.

пластины до 200 мм.

пятно

Векторное сканирование

JBX-9300FS

ZrO/W (Schottky)

100 кВ / 50 кВ

4нм (100 кВ)
7нм (50 кВ)

пластины до 300 мм.

пятно

Векторное сканирование

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас установку по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.