Установки электронно-лучевой литографии JEOL

Установка элеткронно-лучевой литографии JEOL JBX-6300FS (Япония)

 

JEOL Ltd. - мировой лидер в производстве и разработке сканирующих (растровых) электронных микроскопов (РЭМ), просвечивающих электронных микроскопов (ПЭМ), анализаторов поверхности (ОЖЕ микроанализаторы, фотоэлектронные спектрометры, электронно-зондовые микроанализаторы EPMA), системы с фокусированным ионным пучком, масс-спектрометров, спектрометров ядерного магнитного резонанса (ЯМР) и систем электронно-лучевой литографии для производства полупроводниковых приборов.

 

Система электронно-лучевой литографии JBX-6300FS производства JEOL (Япония)

JBX-6300FS – это промышленная система электронно-лучевой литографии, предназначенная для  производства субмикронных и наноразмерных полупроводниковых устройств.  Система может работать с пластинами из различных материалов диаметром до 203,2 мм (8″) включительно, позволяет генерировать изображения с частотой 25 МГц и динамическим диапазоном 19 бит, обладает высокой надежностью и простотой управления.

Для удобства и быстроты работы, в JBX-6300FS реализовано 2 режима литографии: высокоскоростной (4-линзовый) и нанолитографический (5-тилинзовый).

Основные технические характеристики:

Форма пучка

круглое пятно

Сканирование

Векторное

Ускоряющее напряжение

25кВ / 50кВ/100кВ

Ток пучка 30пА – 20нА
Минимальная ширина линии не более 8нм
Минимальный диаметр пятна не более 2 нм
Максимальный диаметр подложки 203,2 мм (8 дюймов)
Погрешность сшивки рабочих областей не более 20нм на поле зрения 62,5 мкм

Максимальный размер области экспозиции

2мм * 2мм (4-линзовый режим, 25кВ)

0,25мм * 0,25мм (5-линзовый режим, 25кВ)

 

Другие системы электронно-лучевой литографии JEOL:

 

 

Электронная пушка

Ускоряющее наряжение

Минимальный размер пучка

Размер пластин

Форма пучка

Развертка

JBX-3050MV

LaB6 single crystal

50 кВ.

 

6 дюймов

(маски)

изменяемая

Векторное сканирование

JBX-5500FS

ZrO/W
(типа Шотки)

50 кВ / 25 кВ

2 нм.

пластины 100 мм

пятно

Векторное сканирование

JBX-6300FS

ZrO/W (Schottky)

100 кВ / 50 кВ / 25 кВ

2 нм.

пластины до 200 мм.

пятно

Векторное сканирование

JBX-9300FS

ZrO/W (Schottky)

100 кВ / 50 кВ

4нм (100 кВ)
7нм (50 кВ)

пластины до 300 мм.

пятно

Векторное сканирование

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас установку по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.