Системы безмасковой лазерной литография Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH

Системы безмасковой лазерной литография Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) для производства фотошаблонов и прямого формирования изображения

 

Системы безмасковой лазерной литографии с непосредственным формированием изображения предназначены  для формирования топологических структур на металлизированных пластинах при производстве фотошаблонов, интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования микроструктур на пластинах кремния, стекле, пленках и других материалах с фоторезистивным покрытием при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики.

 

Области применения

 

Безмасковое непосредственное формирование изображения

Полутоновое экспонирование

MEMS, БиоMEMS

Полупроводниковые маски

Интегральная оптика

Выводные рамки

Плоские мониторы

Теневые, ASICS

 

Системы безмасковой литографии Heidelberg Instruments для НИОКР и мелкой серии:

 

MicroPG 101 (подробнее...)

Настольная модель лазерной безмасковой литографии. Предназначена для решения задач, не требующих высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др.

Минимальный топологический размер 0,9 мкм. Сменные пишущие головки на 0,9 мкм, 2,5 мкм, 5,0 мкм. Размер шаблонов  или пластин до 6 х 6 дюймов. Область экспонирования до 125 х 125 мм. Размер адресной сетки до 40 нм.

Растровое (бинарное) экспонирование, векторное экспонирование (Vector Exposure Mode) и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale Exposure Mode).

Скорость письма от 5 до 90 мм2/мин в зависимости от выбора пишущей линзы.

 

DWL 66+ (подробнее...)

Система безмасковой лазерной литографии DWL 66+ предназначена для задач НИОКР, мелкой серии, опытное производство. Формирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.

Минимальный топологический размер 0,6 мкм. Размер шаблонов до 200 х 200 мм, пластин до 200 мм. Размер адресной сетки до 10 нм.

Скорость письма от 6 до 1000 мм2/мин в зависимости от выбора пишущей линзы.

 

 

Высокопроизводительные системы безмасковой литографии Heidelberg Instruments для серийного производства:

DWL 2000 или DWL 4000 (подробнее...)

Предназначен для работы с фотошаблонами при больших объемах производства. Увеличена скорость письма по сравнению с DWL 66FS.

Предназначена для задач производств крупных серий. Формирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.

Минимальный топологический размер 0,6 мкм. Размер шаблонов до 200 х 200 мм и до 400 х 400 мм соответственно, пластин до 200 мм и до 400 мм сообветственно. Размер адресной сетки до 5 нм. Скорость письма от 29 до 340 мм2/мин  в зависимости от выбора пишущей линзы.

 

Высокоскоростная литография VPG 200 или VPG 400 (подробнее...)

Предназначена для работы с фотошаблонами при больших объемах производства. Увеличена скорость письма по сравнению с DWL 66+ и DWL 200/DWL 4000.

Предназначена для задач производств крупных серий. Формирования топологических структур на металлизированных фотошаблонах при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики, дисплеи.

Минимальный топологический размер 0,75 мкм. Размер шаблонов до 200 х 200 мм и до 400 х 400 мм соответственно. Размер адресной сетки до 12,5 нм. Скорость письма от 300 до 1000 мм2/мин  в зависимости от выбора пишущей линзы.

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас установку по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.