Установки и системы фотолитографии производства MIDAS SYSTEM Co., Ltd.

MDA-400LJ / MDA-400M - установки совмещения и экспонирования с ручным управлением MIDAS SYSTEM Co., Ltd (Корея)

 

MIDAS SYSTEM Co., Ltd. - компания один из мировых лидеров в производстве систем фотолитографии для процессов производства полупроводников и FPD (Flat Panel Display) дисплеев. Компания предлагает установки и системы совмещения и экспонирования, а также центрифуги для нанесения фоторезиста для технологий flip chip, полупроводниковые приборы, MEMS, оптоэлектроника, СВЧ приборы, дифракционная оптика, LED чипы и др.

 

 

MDA-400LJ/MDA-400M - установки совмещения и экспонирования

 

Установка совмещения и экспонирования MDA-400LJ:

 

 

Бюджетная полностью с ручным управлением установки MDA-400LJ широко применяется для технологий изготовления MEMS, оптоэлектроники и др. В режиме контактного экспонирования система может достигнуть прецизионной точности разрешения в 1 мкм. MDA-400LJ - это идеальный и экономичный вариант для использования в лаборатории для проведения НИОКР и для малых объемов производства. Обработка пластин до 100 мм.

Ручное совмещение и ручное экспонирование.

 

Особенности:

 

Прецизионная точность совмещения 1 мкм

Многофункциональный держатель для кусочков и пластин до 4’’ (100мм)

Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)

Прецизионный столик для совмещения и микроскоп

УФ излучения для экспонирования с длиной волны 365 нм.

Антивибрационный стол (опция)

Эргономичный дизайн для удобного использования

Низкая стоимость/высокое качество

 

Брошюра -MDA-400LJ в pdf.

 

Характеристики:

 

Лампы

UV-LED источник света с контролем интенсивности и мощности излучения с длиной волны 365 нм. (для i-line резистов)

Размер подложки

кусочки, пластины до 4 дюймов, размер подложек 4х4 дюйма

Точность совмещения 1 микрон
Разрешение

1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом  (возможно 0,8 мкм)

Размер маски

до 5 х 5 дюймов

Оптическое зрение

Микроскоп двойного поля 1.4x~9x, двойной монитор

Размер однородного пучка излучения

125 мм в диаметре

Однородность пучка

< 3%

Интенсивность излучения при длине волны 365 нм

Максимальная 10 мВт/см2

Режим управления

Полностью ручной

Регулируемое время экспонирования

 0,1 to 999,9 сек с шагом 100 мс.

Совмещение подложек

Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z, по осям х,у ± 5 мм) и по углу θ (± 4°)

движение по оси z - 10 мм

Выравнивание

Компенсация ошибки клина

Методы экспонирования

Мягкий контакт, жесткий контакт, вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором (регулируемое 1 мкм)

Стол

Антивибрационный стол (опция)

 

Установка совмещения и экспонирования MDA-400M:

 

Установка MDA-400M широко применяется для технологий изготовления MEMS, LED, полупроводников и др. В режиме контактного экспонирования система может достигнуть прецизионной точности разрешения в 1 мкм. MDA-400M - это идеальный и экономичный вариант для использования в лаборатории для проведения НИОКР, университетах, научных центрах и для малых объемов производства. Обработка пластин до 150 мм.

Ручное совмещение и автоматическое экспонирование.

 

Результаты после проведения процессов (инспекция с СЭМ).pdf

 

Особенности:

 

Прецизионная точность совмещения 1 мкм

Многофункциональный держатель для кусочков и пластин до 6’’ (150мм)

Специальные держатели подложек (кусочков по запросу)

Прецизионный столик для совмещения и микроскоп

Возможность задания различной интенсивности УФ излучения для экспонирования

Система для компенсации «клина засветки» на воздушных подшипниках

Антивибрационный стол

Эргономичный дизайн для удобного использования

Низкая стоимость/высокое качество

Управление с компьютера

 

Мощность лампы

УФ источник света с мощностью 350 Вт с контролем интенсивности и мощности излучения.

Размер подложки

кусочки, пластины до 6 дюймов, размер подложек 6х6 дюйма

Точность совмещения 1 микрон
Разрешение

1 микрон, при использовании тонкого фоторезиста на Si пластине с вакуумным контактом (возможно 0,8 мкм)

Размер маски

до 7 х 7 дюймов

УФ лампа

350 Вт.

Оптическое зрение

Микроскоп двойного поля (80x - 1000x увеличение), CCD камера

Размер однородного пучка излучения

6,25 х 6,25 дюймов

Однородность пучка

< 5%

Интенсивность излучения при длине волны 365 нм

Максимальная 15-25 мВт/см2

Режим управления

с ПК (PLC контроль)

Регулируемое время экспонирования

 0,1 to 999,9 сек с шагом 100 мс.

Совмещение подложек

Модуль совмещения с возможностью перемещения по осям х,у,z (по z ± 10 мм) и по углу θ (± 5°)

Выравнивание

Компенсация ошибки клина

Методы экспонирования

Мягкий контакт, жесткий контакт, вакуумный контакт (контактное усилие регулируется), экспонирование с микрозазором (регулируемое 1 мкм)

Стол

Антивибрационный стол

Опции

ИК опция обратного совмещения          (IR BSA), Датчик интенсивности УФ излучения, модуль UV-LED излучения (365 нм)

 

Видео презентация MDA-400M:

 

Общая схема установки


 

 

Результаты после проведения процессов (инспекция с СЭМ).pdf

 

Компания MIDAS SYSTEM предлагает приставки для проведения процесса Нано-импринт литографии (NIL- Nano-imprint lithography) американской фирмы Nanolithosolution, Inc. (NLS) устанавливаемые на установки совмещения и экспонирования серии MDA фирмы MIDAS SYSTEM.

 

Спецификация:

Размер пластин: 4 дюйма (100 мм)
Область печати (NIL) - 2 дюйма (50 мм)
Давление печати 0 - 25 PSI
Размер штампа 5 x 0.090 дюймов
Производительность (типичная) < 5 минут/пластина

Разрешение: менее 20 нм.

 

Оборудование устанавливается на установки совмещения и экспонирования серии MDA и включает:

- Модуль NIL литографии - AR-NIM-100

- Контроллер NIL - AR-IMC-100

- Полимер для использования NIL - AR-ULP-100

- UV полимер для использования NIL - AR-UVP-100

 

 

Брошюра - NIL оборудование и процесс от NLS...

 

Общая информация о NIL литографии от NLS...

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас установку по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.