Системы безмаскового совмещения и экспонирования (MLA - Maskless Aligners) Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH

Системы безмаскового совмещения и экспонирования (MLA - Maskless Aligners) Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) для прямого экспонирования и высокоточного совмещения без использования масок (фотошаблонов).

 

 

Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) представила новую линейку установок для безмаскового совмещения и экспонирования (MLA - Maskless Aligners) .

 

Установки бесмаскового совмещения и экспонирования серии MLA (Maskless Aligners) - это высокопроизводительные системы прямого экспонирования специально разработанные для процессов совмещения и экспонирования без использования фотошаблонов (масок). Установки предлагают все возможности традиционной технологии совмещения и экспонирования для однослойных и многослойных применений и даже дают возможность преодолеть некоторые из ограничений фотошаблонной технологии. Установки MLA позволят избавиться от потребности в фотошаблонах и сокращает цикл производства, что существенно сокращает затраты на производство или исследования.

 

Области применения

 

Безмасковое непосредственное формирование изображения

Полутоновое экспонирование

MEMS, БиоMEMS

Полупроводниковые маски

Интегральная оптика

Производство ИС

 

 

Системы безмаскового совмещения и экспонирования (MLA - Maskless Aligners):

 

MLA100 - настольная установка безмаскового совмещения и экспонирования

Настольная модель безмаскового совмещения и экспонирования. Предназначена для решения задач, не требующих высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др.

Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования. 

Минимальный топологический размер 1,0 мкм.

Размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов.

Область экспонирования до 125 х 125 мм. или до Ø100 мм

Точность совмещения (50x50 мм² [3sigma, нм]) -  1000 нм.

Время экспонирования области 100х100 мм² - 200 минут.( около 3 часов)

Растровое (бинарное) экспонирование и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale Exposure Mode).

 

 

MLA150- установка безмаскового совмещения и экспонирования

Новое поколение систем прямого экспонирования установка MLA150 объединяет в себе легкость использования и высокую точность совмещения и высокую производительность.  Предназначена для решения задач, требующих высокой производительности - исследования, НИОКР,  производство и др.

Высокая производительность, низкая стоимость использования. 

Минимальный топологический размер 1,0 мкм.

Размер шаблонов или пластин до 8 х 8 дюймов.

Область экспонирования до 150 х 150 мм. или до Ø150 мм

Точность совмещения (100x100 мм² [3sigma, нм]) -  500 нм.

Время экспонирования области 100х100 мм² - 9 минут.

Обратное совмещение (BSA)- опция.

Возможность установки двух источников - 405 нм и 375 нм.

 

 

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас установку по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.