Оборудование для очистки пластин и фотошаблонов производства NANO-MASTER Inc. 

NANO-MASTER предлагает системы по очистке пластины/фотошаблонов и системы по очистке больших подложек, учитывая современный уровень развития техники.   Ультразвуковая очистка, химическая очистка, щеточная очистка и сушка в одном процессе производится без повреждения подложек с нанесенными структурными элементами или без них, а также на фотошаблонах.

 

Установки очистки серии SWC:

 

Применение установок SWC:

очистка пластины или подложки с нанесенным или ненанесенными структурным элементами

очистка пластин германия, арсенида галлия, фосфида индия, кремния

очистка пластины после CMP

очистка разделенных пластин на подложке

очистка после плазменного травления или снятия фоторезиста

очистка после полировки или после процесса подготовки с бондингу (склеиванию)

очистка X-ray фотошаблонов, ультрафиолетовых фотошаблонов

очистка заготовки фотошаблона со слоём фоторезиста

очистка фотошаблонов с покрытием

очистка покрытия ITO дисплея

очистка керамических подложек с отверстиями лазерного сверлильного устройства

очистка оптической линзы

ультразвуковая очистка для процесса обратной

 

Настольная система очистки SWC 3000:

 

Характеристики SWC 3000

Настольная установка

Очистка фотошаблонов или пластины без повреждений, ультразвуковая очистка и вращающаяся сушка

12 дюймов - круглые, 9 дюймов - квадратные подложки

Микропроцессор для управления

ИК лампа

 

Модели:

SWC-3000

 

Настольная модель

Ультразвуковая очистка,

сушка вращением (dry spin) с азотом N2

SWC-3000-C

 

Настольная установка с модулем подачи химикатов

Ультразвуковая очистка,

сушка вращением (dry spin) с азотом N2,

Распыление химикатов

SWC-3000-M

 

Настольная установка для очистки фотошаблонов

Ультразвуковая очистка (3 МГц сопла), сушка вращением (dry spin) с азотом N2 и ИК сушка (лампа)

 

Опции SWC 3000

фотошаблон или пластина

очистка щеткой (все поверхности или частично)

Очистка химикатами (CDU)

ионизатор азота и др.

 

SWC 3000:

Ш х Г х В: 18-3/4” (476 mm), 22-1/2” (572 mm), 16-1/4” (413 mm)

 

Брошюра - установки серии SWC - 315 КБ...

Брошюра - установки очистки на русском языке - 375 КБ...

 

 

Напольная система очистки SWC 4000:

 

Характеристики SWC 4000

отдельно стоящая установка

защита от повреждений, очистка щеткой, ультразвуковая, химическая и вращающаяся сушка

12 дюймов - круглые, 9 дюймов - квадратные подложки

Микропроцессор для управления

модуль распределения химикатов

отдельная труба для кислот и растворителей

нагретый азот

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Модели:

SWC-4000

 

Напольная модель

Ультразвуковая очистка,

сушка вращением (dry spin) с азотом N2,

распыление химикатов, раздельная подача кислот и растворителей

SWC-4000-М

 

Напольная модель для очистки фотошаблонов

Ультразвуковая очистка (3 МГц сопла), сушка вращением (dry spin) с азотом N2,

Распыление химикатов, раздельная подача кислот и растворителей.

SWC-4000-MP

 

Напольная модель для очистки фотошаблонов с пелликлами (сеткой)

Ультразвуковая очистка (1 или 3 МГц сопла),

сушка вращением (dry spin) с азотом N2,

Распыление химикатов, раздельная подача кислот и растворителей.

 

Опции SWC 4000

фотошаблон или пластина

очистка щеткой (все поверхности или частично)

Очистка химикатами

Озонированая DI вода (20 ppm)

Струйная очистка горячей DI водой

ионизатор азота и др.

озоновая очистка

очистка под высоким давлением DI

Нагретый азот

ионизатор азота и др.

 

SWC 4000:

Ш х Г х В: 26” (660 mm) 30” (762 mm) 52” (1321 mm)

 

Очистка щеткой пластин и фотошаблонов:

 

Брошюра - установки серии SWC - 315 КБ...

Брошюра - установки очистки на русском языке - 375 КБ...

 

Напольная система LSC 4000:

Применение LSC

очистка пластин или подложек с нанесенным

или не нанесенным структурными элементами

очистка разделенных пластин на подложке

очистка покрытия ITO дисплея

очистка заготовки фотошаблона со слоем фоторезиста

очистка фотошаблона с покрытием

 

Харектеристики LSC

Вплоть до 21 дюйма круглой формы,

15”x15”дюймов подложки квадратной формы

большая камера искусственного климата

максимум с тремя рычагами для:

-ультразвука

-щетки

-горячей дианизованной воды, высокого давления DI или Piranha

ПК-контроля через программное обеспечение Lab View

совмещения с роботизированной загрузкой-выгрузкой (Robotic load unload)

 

Опции

фотошаблон или пластина

очистка щеткой

озонированная дианизованная вода (мг/м3)

горячая DI

высокое давление DI

гидрогенная DI

Piranha

автоматическая загрузка-выгрузка

HEPA мини-оборудование фильтрования

 

Дополнительные отдельно стоящие модули

модуль подачи химикатов

озоновый генератор

гидрированный генератор дианизованной воды

DI модуль высокого давления

модуль смешивания серной кислоты и

перекиси водорода

роботизированный модуль загрузки-разгрузки

 

Брошюра - установки серии LSC 4000 на русском языке - 513 КБ...

Брошюра - установки серии LSC 4000 на английском языке - 251 КБ...

Брошюра - установки очистки на русском языке - 375 КБ...

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас продукцию по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.