Многоцелевой рентгеновский дифрактометр RIGAKU (XRD) Ultima IV

Ultima IV - рентгеновский дифрактометр (XRD) многоцелевого назначения с горизонтальным расположением исследуемого образца  производства RIGAKU  (Япония)

 

Более 50 лет японская фирма Rigaku Corporation (Ригаку) специализируется на производстве рентгеновских дифрактометров. Благодаря опыту, инновационным конструкторским решениям, высокому уровню производства, RIGAKU стала мировым лидером в рентгеновской спектрометрии, дифрактометрии, рентгеновской оптике и молекулярной и белковой кристаллографии. Большое количество моделей приборов, выпускаемых фирмой RIGAKU, позволяют подобрать ту из них, которая максимально полно отвечает потребностям пользователя. Это и обуславливает большую популярность оборудования RIGAKU во всем мире.

 

Дифрактометр RIGAKU Ultima IV – новая разработка компании Rigaku. На сегодняшний день – единственный дифрактометр с реализованной функцией полностью автоматической юстировки гониометра. В дифрактометре Rigaku Ultima IV реализованы все возможные на сегодняшний день опции и приставки для дифрактометров для решения широкого круга задач.

 

Компания Ригаку впервые представила свою новую модель Ultima IV на Рентгеновской конференции в Денвере, чем еще раз доказала общественности быстроту своей реакции, как компании-производителя, следовать последним тенденциям в исследованиях материалов и даже опережать их. Так революционным шагом в развитии аппаратных возможностей современных дифрактометров стало внедрение методов SAXS, малоуглового рентгеновского рассеивания, и in-plane, анализа в плоскости, в стандартную конфигурацию q/q дифрактометра. Теперь нет необходимости покупать два прибора или рисковать с синхротроном для решения такого рода задач.

 

SAXS / Малоугловое рентгеновское рассеивание
Опция SAXS была внесена Ригаку в ответ на необходимость исследования наноструктурных материалов. Для лучшего понимания всей морфологии наноструктурной системы необходим анализ и малоуглового и большеуглового диапазона углов кривой рассеивания. Малоугловое рассеивание применяется для определения дальнего порядка, включая определение взаимодействия между частицами и их размер. Большеугловой диапазон открывает фазовый состав анализируемого материала, размер кристаллитов, степень кристаллизации и др. Оба эти метода, также как и другое аналитическое оборудование, помогает охарактеризовать физические размеры наночастиц. SAXS-опция также расширена и для режима отражения при исследовании размера частиц и пор в тонких пленках на подложках, в том числе и в поверхности жидкостей.


In-plane / Анализ в плоскости 
Приставка для рассеивания в плоскости с вращением детектора параллельно поверхности анализируемого образца также расширяют возможности анализа тонких пленок. В то время, пока большинство лабораторных исследований проводятся в стандартной геометрии, анализ на синхротроне обладает преимуществом в методе рассеивания для получения информации непосредственно с поверхности образца тонкой пленки. Поскольку пленки становятся все тоньше, ренгенодифракционные методы в стандартной геометрии либо дают слабую информацию, либо запутанную вследствие малых размеров кристаллитов или аморфности структуры. Многие свойства материалов обусловлены состоянием структуры в плоскости, нежели от структуры в поперечном ей направлении.
При появлении дифрактометра Ultima III дифрактометрические исследования в плоскости могут быть теперь проведены в лабораторных условиях. Такие исследования могут помочь в построении функции фазового состава по глубине анализируемого слоя, в определении преимущественных ориентировок, внутренних напряжений и пр. Нет и необходимости менять такую приставку под стандартные эксперименты, достаточно лишь изменит систему щелей.
Ultima III Ригаку, как и младшие модели, имеет возможность быстрого изменения схемы фокусировки: расходящегося / параллельного пучка. Новая перекрестная оптика (комбинированная оптическая система), разработанная Ригаку, позволяет использовать либо одну, либо другую схему фокусировки в одном оптическом модуле. А изменение схем происходит одним быстрым поворотом фокусирующего зеркала с изогнутой поверхности на плоскую без какой-либо другой дополнительной перестройки «железа». 

 

Области применения
 
Идентификация фаз
Кристаллические структуры
Размер кристаллитов
Преимущественные ориентации
Совершенство кристаллической структуры 
Степень кристаллизации
Остаточные напряжения
Функция радиального распределения
Ориентация и структура тонких пленок
Распределение размеров наночастиц и пор
Многослойные структуры (толщина, плотность, шероховатость)
Одновременный рентгеноструктурный и калориметрический анализ
 
Материалы
 
Порошки (поликристаллические, массивные материалы)
Тонкие пленки (сегнетоэлектрики, магниты, и др.)
Массивные монокристаллы
Жидкости

Опции и приставки:

 

- Модуль формирования параллельного пучка

 

Параллельный рентгеновский пучок формируется многослойным параболическим зеркалом (запатентованная технология CBO – cross beam optics). Модуль формирования такого пучка всегда установлен, отъюстирован и готов к работе – выбор параллельной или фокусирующей геометрии анализа осуществляется одним движением руки. Возможна установка CBO модуля, позволяющего предельно просто переключать фокусирующую (Брэгг-Брентано) оптическую систему на оптическую систему параллельного пучка лучей многослойного пленочного зеркала, а также соответствующего 5 видам оптических систем: фокусирующей оптической системе, оптической системе параллельного пучка, малых углов, микроскопических размеров и высокого разрешения. (Патент Японии № 3548556).

 

- Выбор материала (Cu, ) и типа рентгеновской трубки

- База данных ICDD

- Увеличение радиуса гониометра с 185 до 285 мм. Увеличивает разрешающую способность дифрактометра

- Щели переменной ширины. Позволяют сохранять неизменной облучаемую поверхность образца.

- Германиевый двойной монохроматор (220) для первичного пучка / Ge(220) 2-bounce monochromator

- Модуль малоуглового рассеяния рентгеновских лучей SAXS / SAXS (Small angle X-ray scattering) unit

- Установка рентгеновской оптики для анализа тонких пленок / Upgrade to Thin-film opt - Многофункциональная приставка для анализа тонких пленок / Multi purpose thin-film attachment

- Модуль для анализа в плоскости образца In-Plane / In-Plane

- Графитовый монохроматор для трубки с медным анодом для оптики параллельного пучка и фокусирующей конфигурации / Graphite monochromator Cu (Flexible)

- Многофункциональная приставка для анализа текстур и остаточных напряжений с поворотными столиками / Multi purpose attachment MPA-IV χ(kai)- φ(phi)- Z stage

- Модуль для микроанализа, поворотный столик, управляющая программа / Small Area Measurement Unit,  X-Y-Z-phi stage, CCD camera, Small Area Optics

- Высокоскоростной двумерный детектор

- Дифференциальный сканирующий калориметр / XRD-DSC

- Высокотемпературная приставка

- Среднетемпературная приставка (-180 – 300℃)

- Низкотемпературные приставки ( -4К, -12К)

- Автосменщик образцов

- Держатели образцов различного размера и материала

- Теплообменники замкнутого цикла для охлаждения трубки

- Оборудование для пробоподготовки

 

- Программное обеспечение:

Качественный и количественный анализ

База данных дифрактограмм ICDD PDF-2 или PDF-4

Анализ Ритвельда

Анализ кристалличности

Анализ остаточного аустенита

Анализ остаточных напряжений

Построение прямых и обратных полюсных фигур. Функция распределения ориентировок.

 

Основные технические характеристики:

Рентгеновская трубка

Cu, Fe, Cr, Mo, мощность 1,5-2,5 кВт

Мощность генератора

3 кВт

Геометрия гониометра

Вертикальный, Тета -Тета

Радиус гониометра

185 – 285 мм

Минимальный шаг 2 Тета

0,0001°

Щели расходимости Автоматические до 20 мм

Юстировка рентгеновской оптики

Автоматическая

 

Брошюра - дифрактометр Ultima IV в pdf.

 

Пришлите нам запрос на дифрактометр и Ваши технические требования по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.