Скрубберы и системы нейтрализации отходящих газов CS CLEAN SYSTEMS.

 

CS CLEAN SYSTEMS - лидер в производстве систем для нейтрализация отходящих газов и подачи жидких исходных реагентов для производства полупроводниковых, фотогальванических и микроэлектромеханических устройств.

 

Имея более чем двадцатилетний опыт обслуживания индустрии полупроводников, компания CS CLEAN SYSTEMS – надежный партнер в области нейтрализации отходящих газов, в основном методом поглощения сухим абсорбентом. Более 3000 установок во всем мире подтверждают доверие пользователей к уникальным продуктам и услугам компании CS CLEAN SYSTEMS.

 

Компания продолжает наращивать свой опыт, поддерживая развивающиеся рынки, например, гелиоиндустрию и фотоэлектрическую энергетику, а также технологию MEMS.

В число выпускаемых продуктов входит также передовая система дозировки современных жидких исходных реагентов. Ключевые элементы, которые гарантируют безопасность, надежность и простоту обращения, специально сконструированы с расчетом на передовые материалы завтрашнего дня. Компания CS CLEAN SYSTEMS представляет собой фактически глобальную компанию с исследовательскими, конструкторскими, производственными и рекламными подразделениями, расположенными в специальных центрах в Европе, Японии, США и на Дальнем Востоке.

 

Компанией CS CLEAN SYSTEMS используются передовые технологии хемосорбции для разработки систем нейтрализации отходящих газов, непревзойденных по эффективности очистки и в то же время – абсолютно простых в эксплуатации.

 

Системы CLEANSORB для сухой очистки не потребляют ни электроэнергию, ни воду, ни топливо. Более того, отсутствует загрязнение дорогих водных ресурсов из-за сброса загрязненных сточных вод – главное преимущество с точки зрения экологического баланса.

 

Один модуль с гранулами CLEANSORB обычно связывает несколько тысяч литров опасного газа в безопасные и твердые побочные продукты. Использованные модули CLEANSORB не выбрасываются, а вновь наполняются свежим адсорбентом с минимальным образованием отходов.

 

Гранулами CLEANSORB опасные газы преобразовываются в стабильные неорганические соли при температуре окружающей среды. Это самая лучшая и экологически благоприятная технология очистки для нейтрализации отходящих газов. Доступен для заказа широкий диапазон размеров моделей CLEANSORB, что позволяет удовлетворить потребности всех клиентов, от университетских исследователей с их небольшим масштабом до круглосуточного изготовления подложек.

 

 

Решения компании для нейтрализации отходящих газов:

 

CLEANSORB сухая нейтрализация технологических отходящих газов

CLEAN-PROTECT предохранительное устройство от утечки газа

CLEANVENT миникартридж для вентиляционных линий газораспределительных устройств

Система плазменного преобразования для нейтрализации перфторированных соединений, например, CF4, CHF3, SF6, NF3 и т.д.

CLEANSENS IR датчик для обнаружения перфторированных соединений, например, NF3, SF6, CF4

 

Список применений
Нейтрализация с помощью сухих поглотителей CLEANSORB

Применение процесса

Типичные используемые газообразные или жидкие исходные реагенты

Плазменное травление

Травление металлов

Cl2, BCl3, HCl, CF4, SF6

Травление кремния

Cl2, HBr, SF6, CF4, NF3, C4F8

Травление оксидов

CF4, CHF3, C2F6, C3F8, C4F8, CH2F2, NF3

Травление нитридов

Cl2, O2, SF6

Протравливание вольфрама

SF6

Ионная имплантация

Высокое, среднее, низкое

AsH3, PH3, BF3, P, As, Sb, Sb(CH3)3

ALD-LPCVD-PECVD
 

ТЭОС, нелегированный

ТЭОС, O2, O3

BPSG

ТЭОС, O3, TMP, TMB, SiH4, PH3, B2H6

поликремний

SiH4

легированный мышьяком поликремний

SiH4, AsH3

оксид

SiH4, O2

нитрид, нелегированный

SiH4, NH3, DCS

нитрид, легированный

SiH4, NH3, TMP, TMB, SiH4, PH3, B2H6

оксинитрид, нелегированный

SiH4, NH3, N2O

оксинитрид, легированный

SiH4, NH3, N2O, TMP, TMB, SiH4, PH3, B2H6

диэлектрики с низким значением k

1MS, 2MS, 3MS, 4MS, DMDMOS

медь, CVD

Cu(hfac)(TMVS)

вольфрам

WF6, SiH4, H2

силицид вольфрама

WF6, SiH4, H2, DCS

титан

TiCl4

нитрид титана

TiCl4, NH3, TDMAT

нитрид тантала

PDMATa, PDEATa

оксид тантала

TAETO

нитрид вольфрама

W(CO)6, NH3

HDPCVD, нелегированный

SiH4, O2, Ar

HDPCVD, легированный

SiH4, O2, Ar, TMP, TMB, PH3, B2H6

PECVD, чистый

плазма перфторированных соединений

C2F6, C4F8, NF3

отдаленная плазма NF3

F2

эпитаксия

кремний

DCS, TCS, SiH4, AsH3, PH3, B2H6, HCl

кремний-германий

SiH4, GeH4, CBr4, 1MS, 2MS, 3MS, HCl

полупроводниковые соединения

InP, OMVPE (MOCVD)

TMIn, PH3, TBP

GaAs OMVPE (MOCVD)

TMGa, AsH3, TBA

GaN OMVPE (MOCVD)

TMGa, NH3, UDMH

MBE (MOMBE)

As, P, AsH3, PH3

травление элементов III-V групп

Cl2, BCl3, HBr, SiF4, SF6, CH4, O2

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас продукцию по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.