Установка PECVD плазменного осаждения диэлектриков с вакуумным загрузочным шлюзом PECVD SI 500 PPD

 

SI 500 PPD Parallel Plate PECVD Deposition System - установка плазмо-химического осаждения диэлектриков с параллельными пластинами (PECVD) производства SENTECH Instruments GmbH (Германия)

 

Превосходная однородность, прекрасная воспроизводимость при осаждении диэлектриков

Вакуумный загрузочный шлюз

Операции контролируются компьютером

Программное обеспечение SENTECH Software

Диаметр обрабатываемых пластин до 200мм.

Установка через стену (опция)

Кассетная станция

Эллипсометр in-situ (определение толщины осаждаемого слоя)

 

 

Система плазмо-химического осаждения диэлектриков SI 500 PPD Parallel Plate PECVD Deposition System производства SENTECH Instruments GmbH предназначена для использования в НИОКР для реализации процессов плазмо-химического осаждения диэлектрических пленок (SiO2, Si3N4, SiOx, SiOxNy) на различные подложки.

 

 

Конфигурация системы:

 

Источник ВЧ смещения (13,56 МГц, 600 Вт.)

Душевая система распыления реакционных газов

6 газовых линий с датчиками массового расхода MFC  (SiH4, NH3, N2O, O2, Ar, CF4)

Высокопроизводительная вакуумная система с контролем давления независимого от натекания газа

Вакуумный загрузочный шлюз

Изолированный охлаждаемый или нагреваемый (20ºC up to 350ºC) электрод для работы с пластинами или держателями диаметром до 200 мм. (2, 3,4,6 дюймов, кусочки)

Динамический контроль температуры

Удаленный контроль

Управление под операционной системой Windows XP

Программное обеспечение SENTECH для управления процессами и всеми узлами системы

 

 

Опции:

 

Кассетная станция (cassette to cassette)

Установка через стену (Through-the-wall installation)

Лазерная и спектроскопическая in-situ эллипсометрия (SE401 и SE801)

 

Пришлите нам запрос на данную установку по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.