Горизонтальные промышленные установки групповой термической обработки пластин (диффузионные печи) SVCS s.r.o.

Промышленные горизонтальные диффузионные печи для групповой термической обработки пластин для производства полупроводниковых приборов и солнечных элементов и производства компаний SVCS (Чехия):

 

SVCS (Чехия)  - компания разработчик и производитель промышленных горизонтальных диффузионных печей для групповой обработки пластин для полупроводниковой промышленности и производства изделий фотовольтаики (производство солнечных элементов). Печи для атмосферной обработки и LPCVD и MOCVD процессов  (химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении).

 

Фирма «SVCS» была основана в 2000 году группой частных лиц, использующих долголетний опыт из разных областей деятельности – разработки и реализации систем управления, продажи ультрачистых компонентов и систем для распределения газа, разработки и производства точных механических систем и международной торговли.

 

В начале 21-го столетия стало уже общеизвестным фактом, что производство полупроводниковых приборов и интегральных микросхем покинуло родную Кремниевую Долину в Соединенных Штатах Америки, и стало появляться на раньше совершенно неожиданных местах. Аналогичный процесс логично произошел также у производственного оборудования. На основе многолетних разработок, производства и опыта работы с конечными потребителями, хотя и в совершенно различных экономических условиях, в условиях страны за железным занавесом, появляется на рынке самое современное технологическое оборудование, привлекательное для изготовителей полупроводников – ряд мощных печей SV-FUR для атмосферных и LPCVD и PECVD процессoв.

 

Атмосферные горизонтальные диффузионные печи SVFUR для применении в промышленном производстве полупроводниковых изделий SVaFUR-FP и пилотных производствах и R&D SVaFUR-RD. Системы разработаны на базе легко устанавливаемой, безопасной в использовании и надежной платформы горизонтальных печей. Печи SVCS разработаны для наиболее эффективного сохранения пространства на предприятиях в тоже самое время обеспечивая эффективную реализацию требуемых процессов.

 

Атмосферные процессы:

- пирогенное (мокрое, паровое) окисление;

- сухое окисление;

- прямая диффузия с твердого носителя, жидкого носителя или газовых источников:BBr3, B2H6, POCL3, PH3, BN

- окисление при повышенном давле-

нии (HiPOx);

- формовка, отжиг и спекание;

- предосаждение из газообразных,

жидких и твердых источников.

 

 

Особенности и преимущества:

Самая современная система контроля

Компоненты высшего качества всегда выбираются для достижения превосходных результатов на печах SVCS

До 4-ех реакторов (труб) из кварца или карбида кремния (SiC) для различных процессов

Продвинутая система охлаждения труб

Безконтактная полностью автоматическая система загрузки кантилеверного типа

 

 

Технические параметры:

Размер пластин: 50мм, 75мм, 100мм, 150мм, 200мм, 300мм или любой другой.

Загрузка пластин SVaFUR-FP: 150 и более пластин  и SVaFUR-RD: 25 пластин (обычно)

Система нагрева 3 или 5 зонная SVaFUR-FP:до 1067мм (42") и SVaFUR-RD:до 300мм (12")

0.5°C равномерность температуры по длине

Температура от 200°C до 1300°C

Энергопотребление 95кВт – 165кВт в зависимости от конфигурации труб, 300мм: 3-фазы, 400 или 480ВА, 140 A, 50  60 Гц, 200мм: 3-фазы, 400 или 480ВА, 160A, 60гц (системы могут быть адаптированы под требование электрического подключения в любой стране)

сухой чистый воздух 70 – 110 psig (4,8 to 7,6 bar)

Водя для охлаждения: 40 - 60 LPM, Выхлоп 210m³/h на трубу

Опции: лифт для лодочек и автоматическая загрузка подающей лопатки

 

Брошюра - горизонтальные печи SVFUR для атмосферный и LPCVD процессов в pdf

 

LPCVD процессы:

- нитрид кремния;

- диоксид кремния;

- низкотемпературный оксид кремния (LTO);

- высокотемпературный оксид кремния (HTO);

- поликремний, с наклоном температуры или без наклона;

- процессы с применением TEOS.

Особенности и преимущества:

Самая современная система контроля

Компоненты высшего качества всегда выбираются для достижения превосходных результатов на печах SVCS

До 4-ех реакторов (труб) из кварца или карбида кремния (SiC) для различных процессов

Различные методы контроля вакуума, нагрева и охлаждения:

-дроссельная заслонка

-баланс N2

- контроль вакуумной откачки с преобразователем частоты

Интегрированная вакуумная система (самые продвинутые компании-производители вакуумных насосов)

Продвинутая система охлаждения труб

Бесконтактная полностью автоматическая система загрузки кантилеверного типа

 

Технические параметры:

Размер пластин: 50мм, 75мм, 100мм, 150мм, 200мм, 300мм или любой другой.

Загрузка пластин SVaFUR-FP: 100 и более пластин  и SVaFUR-RD: 25 пластин (обычно)

Система нагрева 3 или 5 зонная SVaFUR-FP:до 1067мм (42") и SVaFUR-RD:до300 мм (12")

± 0.5°C равномерность температуры по длине

Температура от 200°C до 1200°C

Энергопотребление 80кВт – 150кВт в зависимости от конфигурации труб, 150мм: 3-фазы, 400 или 480ВА, 140 A, 50  60 Гц,   200мм: 3-фазы, 400 или 480ВА, 160A, 60гц   (sситемы могут быть адаптированы под требование электрического подключения в любой стране)

сухой чистый воздух 70 – 110 psig (4,8 to 7,6 bar)

Водя для охлаждения: 40 - 60 LPM, Выхлоп 210m³/h на трубу

Опции: лифт для лодочек и автоматическая загрузка подающей лопатки

 

 

Брошюра - горизонтальные печи SVFUR для атмосферный и LPCVD процессов в pdf

 

Пришлите нам запрос на интересующую Вас установку по электронной почте (info@eavangard-micro.ru, или по факсу +7 (495) 482 0674 для отдела оборудования для микроэлектроники и мы подготовим и направим Вам коммерческое предложение в кратчайшие сроки.